秦皇島鍍錫工藝
發(fā)布時(shí)間：2024-07-13 00:57:05
秦皇島鍍錫工藝
二、化學(xué)方法：利用化學(xué)物質(zhì)相互作用，在工件表面形成鍍覆層。1、化學(xué)轉(zhuǎn)化膜處理；在電解質(zhì)溶液中，金屬工件在無外電流作用，由溶液中化學(xué)物質(zhì)與工件相互作用從而在其表面形成鍍層的過程，稱為化學(xué)轉(zhuǎn)化膜處理。如金屬表面的發(fā)藍(lán)、磷化、鈍化、鉻鹽處理等。2、化學(xué)鍍；在電解質(zhì)溶液中，工件表面經(jīng)催化處理，無外電流作用，在溶液中由于化學(xué)物質(zhì)的還原作用，將某些物質(zhì)沉積于工件表面而形成鍍層的過程，稱為化學(xué)鍍，如化學(xué)鍍鎳、化學(xué)鍍銅等。
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鍍層起皮脫落:此類故障主要有兩種可能原因，一是鍍層與基體附著力不佳，二是鍍鎳層脆性大，延展性小。若熱處理不當(dāng)產(chǎn)生難以清除的污垢或鍍前處理不徹底，污垢夾雜在基體與鍍層之間，使鍍層與基體結(jié)合力很差，后續(xù)裝配加工時(shí)，易起皮脫落。當(dāng)光亮劑配比不當(dāng)或質(zhì)量差、pH值太高、陰極電流密度太大及鍍液溫度過低時(shí)，都會造成氫離子在陰極還原后，便以原子氫的狀態(tài)滲入基體金屬及鍍層中，使基體金屬及鍍層的韌性下降而產(chǎn)生"氫脆"現(xiàn)象。另外，當(dāng)鍍鎳液中的金屬雜質(zhì)及分解產(chǎn)物過多時(shí)，也會使鍍層產(chǎn)生"氫脆"現(xiàn)象。
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電鍍需要一個(gè)向電鍍槽供電的低壓大電流電源以及由電鍍液、待鍍零件(陰極)和陽極構(gòu)成的電解裝置。其中電鍍液成分視鍍層不同而不同，但均含有提供金屬離子的主鹽，能絡(luò)合主鹽中金屬離子形成絡(luò)合物的絡(luò)合劑，用于穩(wěn)定溶液酸堿度的緩沖劑，陽極活化劑和特殊添加物（如光亮劑、晶粒細(xì)化劑、整平劑、潤濕劑、應(yīng)力消除劑和抑霧劑等）。電鍍過程是鍍液中的金屬離子在外電場的作用下，經(jīng)電極反應(yīng)還原成金屬原子，并在陰極上進(jìn)行金屬沉積的過程。因此，這是一個(gè)包括液相傳質(zhì)、電化學(xué)反應(yīng)和電結(jié)晶等步驟的金屬電沉積過程。
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四、真空法：在高真空狀態(tài)下令材料氣化或離子化沉積于工件表面而形成鍍層的過程。1、物理氣相沉積(PVD)在真空條件下，將金屬氣化成原子或分子，或者使其離子化成離子，直接沉積到工件表面，形成涂層的過程，稱為物理氣相沉積，其沉積粒子束來源于非化學(xué)因素，如蒸發(fā)鍍?yōu)R射鍍、離子鍍等。2、離子注入；高電壓下將不同離子注入工件表面令其表面改性的過程，稱為離子注入，如注硼等。3、化學(xué)氣相沉積(CVD)低壓(有時(shí)也在常壓)下，氣態(tài)物質(zhì)在工件表面因化學(xué)反應(yīng)而生成固態(tài)沉積層的過程，稱為化學(xué)氣相鍍，如氣相沉積氧化硅、氮化硅等。
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當(dāng)鋁這種金屬最早出現(xiàn)的時(shí)候,它并沒有被立刻應(yīng)用到人們的生活當(dāng)中。后來,針對其獨(dú)特功能和特性的一批新產(chǎn)品逐漸問世,這種高科技材料也逐漸擁有越來越寬闊的市場。雖然鋁的應(yīng)用歷史相對較短,但現(xiàn)在市面上鋁產(chǎn)品的產(chǎn)量已經(jīng)遠(yuǎn)遠(yuǎn)超過了其他有色金屬產(chǎn)品的總和。典型用途:交通工具骨架、飛行器零部件、廚房用具、包裝以及家具。鋁也經(jīng)常被用以加固一些大型建筑結(jié)構(gòu),比如倫敦皮卡迪利廣場上的愛神雕像,以及紐約克萊斯勒汽車大廈的頂部等,都曾用鋁質(zhì)加固材料。
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1：電鍍，電解作用使金屬的表面附著一層金屬膜的工藝,起到防止腐蝕.焊接性、導(dǎo)電性、及增進(jìn)美觀等作用的一種技術(shù)。通常電鍍有金，銀，鎳，鋅，錫。優(yōu)點(diǎn)：鍍完后表層光澤度高，金屬外觀美觀，是一種滿足大部分電子元器件的表面處理工藝。2：陽極氧化主要是鋁材質(zhì)的陽極氧化，是利用電化學(xué)原理，在鋁和鋁合金的表面生成一層氧化鋁膜。這層氧化膜具有防護(hù)性、裝飾性、絕緣性、耐磨性等特殊特性。優(yōu)點(diǎn):可提升強(qiáng)度,并實(shí)現(xiàn)除白色外任何顏色?？蓪?shí)現(xiàn)無鎳封孔，滿足歐、美等國家對無鎳的要求。