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浙江電鍍銀加工廠家

發(fā)布時間:2024-11-23 00:51:07
浙江電鍍銀加工廠家

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四、真空法:在高真空狀態(tài)下令材料氣化或離子化沉積于工件表面而形成鍍層的過程。1、物理氣相沉積(PVD)在真空條件下,將金屬氣化成原子或分子,或者使其離子化成離子,直接沉積到工件表面,形成涂層的過程,稱為物理氣相沉積,其沉積粒子束來源于非化學(xué)因素,如蒸發(fā)鍍?yōu)R射鍍、離子鍍等。2、離子注入;高電壓下將不同離子注入工件表面令其表面改性的過程,稱為離子注入,如注硼等。3、化學(xué)氣相沉積(CVD)低壓(有時也在常壓)下,氣態(tài)物質(zhì)在工件表面因化學(xué)反應(yīng)而生成固態(tài)沉積層的過程,稱為化學(xué)氣相鍍,如氣相沉積氧化硅、氮化硅等。

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耐腐蝕性差;由于鍍鎳層的孔隙率高,只有當(dāng)鍍層厚度超過25微米時才基本上無孔。因此薄的鍍鎳層不能單獨(dú)用來作防護(hù)性鍍層,采用雙層鎳與多層鎳體系。掛綠腐蝕電鍍后采用VCF一385防銹切削液對鍍層進(jìn)行封閉處理,當(dāng)防銹切削液干燥后,在產(chǎn)品上便形成掛綠的不良現(xiàn)象。內(nèi)孔露銅由于光亮鎳鍍液的深鍍能力不如氰化鍍暗銅的好,電鍍后亮鎳鍍層在產(chǎn)品內(nèi)孔部位不能完全把銅鍍層覆蓋,故造成產(chǎn)品內(nèi)孔露銅色的不良現(xiàn)象。

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耐腐蝕性差:由于鍍鎳層的孔隙率高,只有當(dāng)鍍層厚度超過25微米時才基本上無孔。因此薄的鍍鎳層不能單獨(dú)用來作防護(hù)性鍍層,采用雙層鎳與多層鎳體系。掛綠腐蝕,電鍍后采用VCF一385防銹切削液對鍍層進(jìn)行封閉處理,當(dāng)防銹切削液干燥后,在產(chǎn)品上便形成掛綠的不良現(xiàn)象。內(nèi)孔露銅.由于光亮鎳鍍液的深鍍能力不如氰化鍍暗銅的好,電鍍后亮鎳鍍層在產(chǎn)品內(nèi)孔部位不能完全把銅鍍層覆蓋,故造成產(chǎn)品內(nèi)孔露銅色的不良現(xiàn)象

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濃差極化。由于鄰近電極表液層的濃度與溶液主體的濃度發(fā)生差異而產(chǎn)生的極化稱濃差極化,這是由于溶液中離子擴(kuò)散速度小于電子運(yùn)動造成的。電鍍過程是鍍液中的金屬離子在外電場的作用下,經(jīng)電極反應(yīng)還原成金屬原子并在陰極上進(jìn)行金屬沉積的過程。電鍍原理簡單而言,就是在含有欲鍍金屬的鹽類溶液中,以被鍍基體金屬為陰極,通過電解作用,使鍍液中欲鍍金屬的陽離子在基體金屬表面沉積出來,形成鍍層。

浙江電鍍銀加工廠家

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主電路主要包括主變壓器、功率整流器件和一些檢測、保護(hù)裝置等。電鍍電源中的主變壓器是將交流電源電壓降低為電鍍工藝所需要的電壓值。晶閘管整流器中使用的是工頻(50Hz)變壓器,高頻開關(guān)電源中使用的是高頻(10~50kHz)變壓器。檢測裝置包括電壓表、電流互感器等。保護(hù)裝置主要是用于功率整流器件的過流保護(hù)??刂齐娐分饕ňчl管或IGBT等的觸發(fā)控制電路,電源的軟啟動電路,過流、過壓保護(hù)電路,電源缺相保護(hù)電路等。