秦皇島電鍍鎳加工工藝
發(fā)布時(shí)間：2024-12-06 00:50:31
秦皇島電鍍鎳加工工藝
耐腐蝕性差:由于鍍鎳層的孔隙率高，只有當(dāng)鍍層厚度超過(guò)25微米時(shí)才基本上無(wú)孔。因此薄的鍍鎳層不能單獨(dú)用來(lái)作防護(hù)性鍍層，采用雙層鎳與多層鎳體系。掛綠腐蝕,電鍍后采用VCF一385防銹切削液對(duì)鍍層進(jìn)行封閉處理，當(dāng)防銹切削液干燥后，在產(chǎn)品上便形成掛綠的不良現(xiàn)象。內(nèi)孔露銅.由于光亮鎳鍍液的深鍍能力不如氰化鍍暗銅的好，電鍍后亮鎳鍍層在產(chǎn)品內(nèi)孔部位不能完全把銅鍍層覆蓋，故造成產(chǎn)品內(nèi)孔露銅色的不良現(xiàn)象
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四、真空法：在高真空狀態(tài)下令材料氣化或離子化沉積于工件表面而形成鍍層的過(guò)程。1、物理氣相沉積(PVD)在真空條件下，將金屬氣化成原子或分子，或者使其離子化成離子，直接沉積到工件表面，形成涂層的過(guò)程，稱為物理氣相沉積，其沉積粒子束來(lái)源于非化學(xué)因素，如蒸發(fā)鍍?yōu)R射鍍、離子鍍等。2、離子注入；高電壓下將不同離子注入工件表面令其表面改性的過(guò)程，稱為離子注入，如注硼等。3、化學(xué)氣相沉積(CVD)低壓(有時(shí)也在常壓)下，氣態(tài)物質(zhì)在工件表面因化學(xué)反應(yīng)而生成固態(tài)沉積層的過(guò)程，稱為化學(xué)氣相鍍，如氣相沉積氧化硅、氮化硅等。
秦皇島電鍍鎳加工工藝
耐腐蝕性差；由于鍍鎳層的孔隙率高，只有當(dāng)鍍層厚度超過(guò)25微米時(shí)才基本上無(wú)孔。因此薄的鍍鎳層不能單獨(dú)用來(lái)作防護(hù)性鍍層，采用雙層鎳與多層鎳體系。掛綠腐蝕電鍍后采用VCF一385防銹切削液對(duì)鍍層進(jìn)行封閉處理，當(dāng)防銹切削液干燥后，在產(chǎn)品上便形成掛綠的不良現(xiàn)象。內(nèi)孔露銅由于光亮鎳鍍液的深鍍能力不如氰化鍍暗銅的好，電鍍后亮鎳鍍層在產(chǎn)品內(nèi)孔部位不能完全把銅鍍層覆蓋，故造成產(chǎn)品內(nèi)孔露銅色的不良現(xiàn)象。
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鋁件電鍍液配方工藝流程：高溫弱堿浸蝕→清洗→酸洗→清洗→浸鋅→清洗→二次浸鋅→清洗→預(yù)鍍銅→清洗→預(yù)鍍銀→氰化光亮鍍銀→回收洗→清洗→銀保護(hù)→清洗→烘干。從工藝流程看，所選保護(hù)材料必須耐高溫（80℃左右）、耐堿、耐酸，其次，保護(hù)材料在鍍銀后能易于剝離。市售的保護(hù)材料有可剝性橡膠、可剝性漆、一般粘性膠帶及膠帶等。分別試驗(yàn)這些保護(hù)材料的耐酸、堿腐蝕、耐高溫（堿蝕溶液最高溫度80℃左右）性能以及可剝離性。
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二、化學(xué)方法：利用化學(xué)物質(zhì)相互作用，在工件表面形成鍍覆層。1、化學(xué)轉(zhuǎn)化膜處理；在電解質(zhì)溶液中，金屬工件在無(wú)外電流作用，由溶液中化學(xué)物質(zhì)與工件相互作用從而在其表面形成鍍層的過(guò)程，稱為化學(xué)轉(zhuǎn)化膜處理。如金屬表面的發(fā)藍(lán)、磷化、鈍化、鉻鹽處理等。2、化學(xué)鍍；在電解質(zhì)溶液中，工件表面經(jīng)催化處理，無(wú)外電流作用，在溶液中由于化學(xué)物質(zhì)的還原作用，將某些物質(zhì)沉積于工件表面而形成鍍層的過(guò)程，稱為化學(xué)鍍，如化學(xué)鍍鎳、化學(xué)鍍銅等。
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利用水壓將轉(zhuǎn)印紙上的彩色紋樣印刷在三維產(chǎn)品表面的一種方式。隨著人們對(duì)產(chǎn)品包裝與表面裝飾要求的提高，水轉(zhuǎn)印的用途越來(lái)越廣泛。適用材料：所有的硬材料都適合水轉(zhuǎn)印，適合噴涂的材料也一定適用于水轉(zhuǎn)印。最常見的為注塑件和金屬件。工藝成本：無(wú)模具費(fèi)用，但需要利用夾具將多件產(chǎn)品同時(shí)進(jìn)行水轉(zhuǎn)印，時(shí)間成本一般每周期不會(huì)超過(guò)10分鐘。環(huán)境影響：和產(chǎn)品噴涂比較而言，水轉(zhuǎn)印更充分的應(yīng)用了印刷涂料，減少了廢料泄漏和材料浪費(fèi)的可能。