北京鋁氧化廠家
發(fā)布時(shí)間：2025-03-13 00:45:56
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1：電鍍，電解作用使金屬的表面附著一層金屬膜的工藝,起到防止腐蝕.焊接性、導(dǎo)電性、及增進(jìn)美觀等作用的一種技術(shù)。通常電鍍有金，銀，鎳，鋅，錫。優(yōu)點(diǎn)：鍍完后表層光澤度高，金屬外觀美觀，是一種滿足大部分電子元器件的表面處理工藝。2：陽(yáng)極氧化主要是鋁材質(zhì)的陽(yáng)極氧化，是利用電化學(xué)原理，在鋁和鋁合金的表面生成一層氧化鋁膜。這層氧化膜具有防護(hù)性、裝飾性、絕緣性、耐磨性等特殊特性。優(yōu)點(diǎn):可提升強(qiáng)度,并實(shí)現(xiàn)除白色外任何顏色?？蓪?shí)現(xiàn)無(wú)鎳封孔，滿足歐、美等國(guó)家對(duì)無(wú)鎳的要求。
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濃差極化。由于鄰近電極表液層的濃度與溶液主體的濃度發(fā)生差異而產(chǎn)生的極化稱(chēng)濃差極化，這是由于溶液中離子擴(kuò)散速度小于電子運(yùn)動(dòng)造成的。電鍍過(guò)程是鍍液中的金屬離子在外電場(chǎng)的作用下，經(jīng)電極反應(yīng)還原成金屬原子并在陰極上進(jìn)行金屬沉積的過(guò)程。電鍍?cè)砗?jiǎn)單而言，就是在含有欲鍍金屬的鹽類(lèi)溶液中，以被鍍基體金屬為陰極，通過(guò)電解作用，使鍍液中欲鍍金屬的陽(yáng)離子在基體金屬表面沉積出來(lái)，形成鍍層。
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鍍層起皮脫落:此類(lèi)故障主要有兩種可能原因，一是鍍層與基體附著力不佳，二是鍍鎳層脆性大，延展性小。若熱處理不當(dāng)產(chǎn)生難以清除的污垢或鍍前處理不徹底，污垢夾雜在基體與鍍層之間，使鍍層與基體結(jié)合力很差，后續(xù)裝配加工時(shí)，易起皮脫落。當(dāng)光亮劑配比不當(dāng)或質(zhì)量差、pH值太高、陰極電流密度太大及鍍液溫度過(guò)低時(shí)，都會(huì)造成氫離子在陰極還原后，便以原子氫的狀態(tài)滲入基體金屬及鍍層中，使基體金屬及鍍層的韌性下降而產(chǎn)生"氫脆"現(xiàn)象。另外，當(dāng)鍍鎳液中的金屬雜質(zhì)及分解產(chǎn)物過(guò)多時(shí)，也會(huì)使鍍層產(chǎn)生"氫脆"現(xiàn)象。
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鋁件電鍍液配方工藝流程：高溫弱堿浸蝕→清洗→酸洗→清洗→浸鋅→清洗→二次浸鋅→清洗→預(yù)鍍銅→清洗→預(yù)鍍銀→氰化光亮鍍銀→回收洗→清洗→銀保護(hù)→清洗→烘干。從工藝流程看，所選保護(hù)材料必須耐高溫（80℃左右）、耐堿、耐酸，其次，保護(hù)材料在鍍銀后能易于剝離。市售的保護(hù)材料有可剝性橡膠、可剝性漆、一般粘性膠帶及膠帶等。分別試驗(yàn)這些保護(hù)材料的耐酸、堿腐蝕、耐高溫（堿蝕溶液最高溫度80℃左右）性能以及可剝離性。
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四、真空法：在高真空狀態(tài)下令材料氣化或離子化沉積于工件表面而形成鍍層的過(guò)程。1、物理氣相沉積(PVD)在真空條件下，將金屬氣化成原子或分子，或者使其離子化成離子，直接沉積到工件表面，形成涂層的過(guò)程，稱(chēng)為物理氣相沉積，其沉積粒子束來(lái)源于非化學(xué)因素，如蒸發(fā)鍍?yōu)R射鍍、離子鍍等。2、離子注入；高電壓下將不同離子注入工件表面令其表面改性的過(guò)程，稱(chēng)為離子注入，如注硼等。3、化學(xué)氣相沉積(CVD)低壓(有時(shí)也在常壓)下，氣態(tài)物質(zhì)在工件表面因化學(xué)反應(yīng)而生成固態(tài)沉積層的過(guò)程，稱(chēng)為化學(xué)氣相鍍，如氣相沉積氧化硅、氮化硅等。
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鍍層起皮脫落；此類(lèi)故障主要有兩種可能原因，一是鍍層與基體附著力不佳，二是鍍鎳層脆性大，延展性小。若熱處理不當(dāng)產(chǎn)生難以清除的污垢或鍍前處理不徹底，污垢夾雜在基體與鍍層之間，使鍍層與基體結(jié)合力很差，后續(xù)裝配加工時(shí)，易起皮脫落。當(dāng)光亮劑配比不當(dāng)或質(zhì)量差、pH值太高、陰極電流密度太大及鍍液溫度過(guò)低時(shí)，都會(huì)造成氫離子在陰極還原后，便以原子氫的狀態(tài)滲入基體金屬及鍍層中，使基體金屬及鍍層的韌性下降而產(chǎn)生"氫脆"現(xiàn)象。另外，當(dāng)鍍鎳液中的金屬雜質(zhì)及分解產(chǎn)物過(guò)多時(shí)，也會(huì)使鍍層產(chǎn)生"氫脆"現(xiàn)象。