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電鍍錫工藝故障處理:酸性光亮鍍錫液雜質(zhì)的影響和去除

2022-12-12 14:24:25

電鍍錫工藝故障處理:酸性光亮鍍錫液雜質(zhì)的影響和去除

核心提示:電鍍錫工藝故障處理:酸性光亮鍍錫液雜質(zhì)的影響和去除

酸性光亮鍍錫溶液一般比較穩(wěn)定,主要是鍍液的黏度和渾濁度影響鍍液的性能。

電鍍錫加工

鍍錫液中常見無機(jī)雜質(zhì)是陽離子Cu2+、Fe2+、Cr6十、Sn4+等,陰離子Cl-、N03一等,這些雜質(zhì)主要來自于前道工序帶人及鍍件落入鍍槽所致。

四價錫是由二價錫氧化水解生成不溶性四價錫化合物,這種沉淀物,呈游離膠體,使鍍錫液渾濁,影響鍍液的穩(wěn)定性(Sn4+會形成偏錫酸)和鍍層質(zhì)量(鍍層容易產(chǎn)生麻點),為防止Sn2+的氧化,在停鍍時掛少量錫陽極是必要的,可減少二價錫的氧化,還要盡量防止空氣對鍍錫液的氧化,生產(chǎn)中不能用空氣攪拌,盡量保持鍍液低溫狀態(tài),使鍍液壽命延長。去除四價錫可用專門的處理劑(SY-800)去除。①銅離子可以使錫陽極變黑,鍍錫層產(chǎn)生夾雜、發(fā)黑,用低電流密度電解處理;②銻、砷使得鍍層變暗、孔隙率增加,可用低電流密度電解處理;③氯離子可使鍍錫層產(chǎn)生針孔并影響鍍錫層的空隙率和釬焊性,鍍液中的Cl一離子不易去除,主要是防止其帶入,鍍前要用純水清洗,在鍍液中它們的含量可容度在0.59/L,也可用大電流密度電解處理降低氯離子的含量。

另外,鍍錫液中有機(jī)雜質(zhì)的積累和光亮劑的分解產(chǎn)物,會使鍍錫液渾濁和黏度增加,導(dǎo)致鍍錫層出現(xiàn)氣流和光亮范圍縮小,鍍層發(fā)霧。除了在工藝和操作上盡量少加有機(jī)物,防止其加速分解外,要定時對鍍錫液進(jìn)行處理,處理時可適量加入凝絮劑,進(jìn)行充分?jǐn)嚢瑁缓蠹尤?9/L左右的粉狀活性炭(將活性炭用水調(diào)成糊狀),要充分?jǐn)嚢?無需加熱)待其自然沉淀,靜置一夜,將上層較清鍍液先過濾,底部黏度較高的鍍液較難過濾,要用較長的時間才能把沉淀分離去除。處理后的鍍液經(jīng)化驗補充其基本成分的含量后,再加添加劑調(diào)整后就可以電鍍。

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